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【duv和euv技术区别】DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography） ， EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography） 。从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下 。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造 ， 并且还可以向5nm、3nm继续延伸 。
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